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光电材料|化学抛光处理对CdZnTe多晶薄膜微观结构、光电性能的影响
发布时间:2022-01-05     作者:光电材料   分享到:

中心句对近间隔凝炼法(CSS)萌发的CdZnTe多晶聚酯薄膜参与了电学镜面抛光。

用于能谱仪(EDS)、原子团力光学显微镜(AFM)、拉曼光谱图(Raman)、工作电压电流-电压降(I-V)基本特性和工作电压电流-日期(I-T)试验了溴化甲醇蚀化悬浊液(CH3OH:Br2 = 50:1.5)的蚀化日期对框架的干扰。

CdZnTe多晶透明膜的面上形貌和光电公司能力。

但是是因为,十分的物理增加光泽时能否大幅度降低CdZnTe透明膜的界面粗糟度、界面问题和漏电流。

改变CdZnTe膜的光电子稳定性。

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meso-四(对烷氧基苯基)卟啉钼配合物

加硫铅固载四(对-羧基苯基)铁卟啉离子液体涂料(FeTCPP/PbS)

cas:108443-61-4|四羧基苯基卟啉钴|TCPP-(Co2+)

原卟啉 IX 二甲酯,CAS号:5522-66-7

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