CTAB模板介孔硅技术（CTAB-Templated Mesoporous Silica Technology）

CTAB（十六烷基三甲基溴化铵）是常用阳离子表面活性剂，可作为软模板合成介孔硅材料，如MCM-41和SBA-15。

合成步骤：

模板开发剂溶水：CTAB混溶偏碱水硫酸铜溶液（如NaOH或NH₄OH调接pH至10-11）；硅源加如：在CTAB胶束装修标准中变慢中滴加硅源（如TEOS，四乙氧基硅烷）；淀粉水解反应缩合：TEOS在典型的含碱先决条件颁发生淀粉水解反应缩合，在CTAB表格模板引导系统下成型依规硅氧互联网；受损与固定：一般在80–100°C下发生反应24钟头；弄掉模板免费：能够煅烧（550°C）或醇/酸洗磷化法移除CTAB，获得了介孔型式。

材料特征：

孔经调节：应该为2–10 nm，可根据倒入辅助器模板免费剂（如TMB）发展孔经；比外观积：500–1200 m²/g；秩序井然孔道框架：呈现出六方对应排布。

应用方向：

肿瘤药物缓控的载体；金属材料納米物体质粒载体；促使剂斜撑素材；荧光检测器芯片封装体制。

 

产地：西安pg电子娱乐游戏app 生物

用途：科研 

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