CTAB模板介孔硅技术（CTAB-Templated Mesoporous Silica Technology）

CTAB（十六烷基三甲基溴化铵）是常用阳离子表面活性剂，可作为软模板合成介孔硅材料，如MCM-41和SBA-15。

合成步骤：

范例剂降解：CTAB溶解于酸性水溶剂（如NaOH或NH₄OH调节器pH至10-11）；硅源成为：在CTAB胶束安全体系中慢慢地加入适量硅源（如TEOS，四乙氧基硅烷）；油脂电离缩合：TEOS在是碱性的必要条件颁发生油脂电离缩合，在CTAB网站模板疏导下生成秩序硅氧互联网；老化试验与凝固后：常在80–100°C下想法24几小时；弄掉模版网站：经过煅烧（550°C）或醇/钝化处理法移除CTAB，拥有介孔组成。

材料特征：

口径调节管控：常见为2–10 nm，可实现注入氧化硅表格模板剂（如TMB）前所未有口径；比外表积：500–1200 m²/g；进行孔道成分：突显六方对称轴排列方式。

应用方向：

药物治疗缓凝媒体；合金金属纳米技术激光束的载体；催化反应剂支持力的材料；荧光电极装封标准体系。

 

产地：西安pg电子娱乐游戏app 生物

用途：科研 

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