获得了含羧酸基团的外星期四充当无金屬(H2Pc)、Mg(II) (MgPc)和In(III)CI (InPc)酞菁有机化合物，并利于多样光谱分析技术性对其展开了研究方法。

论述了这部分有机化合物在DMSO、DMF和THF中有着很好的融掉度的光电磁学、光化学式和聚集性能指标。用DMSO和DMF设计了这么多酞菁在多种质量浓度下的涌入现象。

论述了DMSO和DMF的光物理防御无机化学机械性质，还包括荧光光谱图、量子劳动生产率、单重态产氧和光降解做法，以体现了以下类化合物最为光敏剂的可以选择性。

还有就是，还探讨了塑料正离子的留存和不留存对某些酞菁光检查是否和光物理上的经营性质的的影响。与无塑料酞菁繁衍物较之，塑料酞菁(Mg(II)和In(III)CI)具较高的单重态产氧转化率。

给出单线态产氧成功率，我国可能说，金属质正离子在酞菁环上的会存在增长了单线态产氧。

报告单取决于，这有机物在光推动力**(PDT)中含有自身的光敏剂使用发展趋势。

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