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酞菁|用于柔性电子应用的酞菁氯化铟(III)非晶膜的简易沉积
发布时间:2022-01-06     作者:酞菁   分享到:

在聚冰醋酸酯柔性板衬底上沉淀了不一样规格的酞菁氯化铟聚酰亚胺膜,作的新的光学反应限制和缴光滤光片运用。

用x光谱线衍射钻研了PcInCl塑料薄膜和珍珠棉的硫化锌组成部分,在50 ~ 140 nm的有所不同料厚下,PcInCl塑料薄膜和珍珠棉兼备非晶态底部形态。

对不一料厚(波形和非波形)PcInCl透气膜的电子光学基本特征开展了折算和谈论。

折射率率是2.7 eV,能隙为1.36 eV。

衡量的非线型网络弯折率和非线型网络三阶磁化率在10 ~ 10esu范围图内。

PcInCl聚酰亚胺膜具有着较高的脉冲激光行业光限幅性,也是种很有就业前景的脉冲激光行业滤光材质。

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cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁钯 (II)

cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)

四叔丁基酞菁硅水合物|CAS号: 85214-70-6

二硫化硅包覆机菁活性染料壳核型nm颗粒剂

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