在聚醋酸钠酯软质衬底上形成了不一样的厚度的酞菁氯化铟贴膜，当做其中一种新的光纤机光切割机的限制和机光滤光片应用。

用x放射性元素衍射设计了PcInCl贴膜的氯化钠晶体机构，在50 ~ 140 nm的有所不同规格下，PcInCl贴膜都具有非晶态型态。

对差异它的厚度(线性网络网络和非线性网络网络)PcInCl保护膜的光电性能完成了运算和讨论稿。

折射率比率为2.7 eV，能隙为1.36 eV。

预估的非规则化折射率率和非规则化三阶磁化率在10 ~ 10esu范围之内内。

PcInCl复合膜享有较高的脉冲光光限幅性，都是种很有发展前景的脉冲光滤光资料。

太多推存：

cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁钯 (II)

cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)

四叔丁基酞菁硅水合物|CAS号: 85214-70-6

二氧化的硅覆盖菁染色剂壳核型nm颗粒剂

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