拓扑结构缺陷报告对游走基H2Pc和二种二维金属质衍生物物（CuPc和ZnPc）与石墨烯材料薄片模特互不效应的结合在一起比强度、代数样式和光电子因素的关系。

将内含边缘化五边形（5）、吡啶基（5665）和Stone-Wales （SW）缺点的聚类分析法建模方法与无缺点的石墨烯材料建模方法（G）的DFT求算最后实施了相对较。

纳米材料从表面的拓扑格局格局对基本为立体的酞菁分子式的图案有太强的引响。

在原始和含SW缺陷的模型上，石墨烯大环总体上保持平坦，但在大多数情况下，孤立的五边形缺陷和吡喃基单元的存在会导致酞菁体系的强烈畸变，从而增加其与石墨烯片的接触面积。

于是提供了了俩种成分间更**的π-π堆积物效用。

在碗形5和5665纳米技术团簇的情况下下，“endo”吸咐的经济波动经济环轮廓比“exo”吸咐的经济波动经济环轮廓更比较突出;反起来，5665具体型号的曲度更锐利，更强。

其它研发的互相配合物的非共价键都好强，按5665_exo ＆lt;5_exo ＆lt;5665_endo ＆lt;G ＆ lt;江南。

更高推存：

cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁钯 (II)

cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)

四叔丁基酞菁硅水合物|CAS号: 85214-70-6

二氧化反应硅包塑菁染剂壳核型納米粒子

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