酞菁|基于光谱和电化学研究和DFT计算的酞菁能隙的测定
研究了一种酞菁染料在溶液、水-空气界面中的二维Langmuir层和沉积在固体衬底上的薄膜形式。
试验科研及时补充了DFT计算公式对边缘化大分子式和大分子式与稀释剂的相互之间帮助。能够研究方案需要判断出氧分子构成对酞菁能隙的直接影响。实验英文效果与DFT计算方式效果极为契合。结论是因为，MP2策略能够的大分子轮轨激光能量值与DFT结论有较大的各不相同。MP2方法步骤的数据与实验性数据会有出现分歧。
更加多推存：
cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁钯 (II)
cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)
四叔丁基酞菁硅水合物|CAS号: 85214-70-6
二防氧化硅围绕菁染色剂壳核型nm科粒
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